真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下（xià）， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛（fēi）行濺射到玻璃（lí）基板表麵凝（níng）結（jié）形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加（jiā）熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發（fā）裝（zhuāng）置的關鍵部件，

大多（duō）數蒸發材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發（fā）。真空（kōng）蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電阻（zǔ）法、電子束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。