濺射靶材： 濺射（shè）靶材按形狀分類：矩形（xíng）平麵靶材、圓形平麵靶材、圓柱靶（bǎ）材（cái）

濺射靶（bǎ）材按成分分類：單質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶（bǎ）材

平（píng）麵靶材利用率比較低（dī），隻有30%左右，沿（yán）著環形（xíng）跑（pǎo）道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率越（yuè）大，濺射（shè）速度越大；靶（bǎ）允許（xǔ）的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允（yǔn）許的靶功率（lǜ）高（gāo）。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄（báo）、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常（cháng）用無氧銅，無氧銅的導熱（rè）性比紫銅好；強度足夠---太薄，容易變形，不易真空密（mì）封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼不泡或（huò）泡（pào）在冷水中（zhōng）；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容（róng）易變形。