草莓视频CAOMEI888真空帶（dài）你（nǐ）了解真（zhēn）空蒸（zhēng）發鍍膜法的概念：

1.基本原理：真空蒸發（fā）鍍膜（mó）法（簡稱真空蒸鍍）是在真空室中加熱蒸（zhēng）發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表麵氣化逸出，形成蒸汽流入射到固體（稱為襯底或基片）表麵凝結形成固態薄膜的方（fāng）法。 

2.真空蒸鍍時尤其是對真（zhēn）空環境的要求更嚴格其原因（yīn）有：

A.防（fáng）止在高溫下因空氣（qì）分子和蒸發源發生反（fǎn）應；

B.防（fáng）止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞；

C.防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜（mó）中形成化合物；

3.設備：真空鍍膜室和真空抽（chōu）氣係統兩大部分組成。真（zhēn）空鍍（dù）膜室內（nèi）裝有蒸發源、被蒸鍍材料、基片支架及基片等。