磁控濺射（shè）鍍膜技術（shù）介紹（shào）
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人（rén）氣：17153
磁控濺射鍍膜設備是一種具（jù）有結構簡單、電器控製穩（wěn）定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有重要影響。
磁控濺射鍍（dù）膜技術在陶瓷表麵（miàn）裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本（běn）底真空（kōng）→plasma清洗→加（jiā）熱→通（tōng）氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射（shè）(或多次濺射)→鍍AF膜→破真（zhēn）空卸片→表麵檢驗→性能測試（shì）→包裝、入庫（kù）。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射（shè）工藝，製出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐（nài）磨（mó）、高耐（nài）劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結構（gòu）設計，設計出各層不同折射率材（cái）料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備（bèi）外觀件時尚、美觀的特點，而且不（bú）會屏蔽電磁信號。
磁（cí）控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷（cí）強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需（xū）求（qiú）。
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