真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多（duō）弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於室（shì）內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一（yī）定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並（bìng）飛行（háng）濺（jiàn）射（shè）到被鍍基板表麵（miàn）凝聚成膜的工藝。

多（duō）弧離子鍍膜的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基（jī）板過程中於分子的碰撞（zhuàng），

減（jiǎn）少氣體（tǐ）中的活性分子（zǐ）和（hé）蒸發源材料間的化學反應（如氧化等（děng）），以及（jí）減少成膜過程中（zhōng）氣體分（fèn）子進入薄膜中成為雜質（zhì）的量，從而提供膜層的致密度（dù）、純度、沉積速率和與基板的附（fù）著（zhe）力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避（bì）免了（le）傳統表麵處理的不（bú）足，且各項技術（shù）指（zhǐ）標都優於傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處理工藝（yì）相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為（wéi）多弧離（lí）子（zǐ）鍍膜鎳的（de）二分之一，真空（kōng）鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的（de）三分之一，不鏽（xiù）鋼（gāng）的四分之一，可反複利用（yòng），大大降低了（le）成本。