CJ係列磁控濺射真空鍍膜（mó）機的磁控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺（jiàn）射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物（wù）體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出（chū）的現象。早在1842年Grove在實（shí）驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形（xíng），均勻電場（chǎng）和對數電場則分別用於平（píng）麵靶（bǎ）和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過（guò）程（chéng）中與氬（yà）原子發生（shēng）碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產（chǎn）生電子，電子飛向基片，Ar+在電場（chǎng）作用下（xià），加速飛向陰極（濺射靶（bǎ））並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射（shè）。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀（yí）表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工（gōng）模具（jù）的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等（děng）領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大（dà）的表麵上獲得厚（hòu）度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與（yǔ）基片（piàn）原子（zǐ）相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的（de）材料同時濺射製（zhì）備混合膜、化合膜（mó），還可濺射成TiN仿金（jīn）膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直（zhí）接常溫冷鍍（dù）成（chéng）膜（mó），節能省電，提高產能。