HLG係列多弧離子真空鍍膜機工作原（yuán）理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的（de）技術，即在真空環境下引燃蒸發源(陰極)，與陽極之間形成自持弧光放電，既從（cóng）陰（yīn）極弧光輝點放出陰極物質的離子。由於電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料（liào）局部的（de）爆（bào）發性地等離子（zǐ）化，在工件偏壓（yā）的作用（yòng）下與反應（yīng）氣體化合，而沉積（jī）在（zài）工件表麵（miàn）上形成被鍍的膜層。

1、工具行業（鑽頭、硬質合金（jīn）、銑刀、拉刀、刀頭）
2、汽車工業（活（huó）塞、活塞環、合金輪轂等）

1、裝備低溫離子輔（fǔ）助源，無需加熱直接常溫冷鍍（dù）成膜，節能（néng）省電，提高產能。
2、沉積速率高（gāo），鍍膜速度快，覆（fù）蓋領域廣，可以（yǐ）在多種產（chǎn）品上鍍製各類裝（zhuāng）飾膜或功（gōng）能膜，是中、高端產品大量生產的適宜設備。