CJ係列磁控濺射真空（kōng）鍍膜機的磁控濺射工作原（yuán）理，所謂“濺射”就（jiù）是用荷能（néng）粒子（通常用（yòng）氣體正離子）轟擊物體，從（cóng）而引起物體表麵原子從母體（tǐ）中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象（xiàng）。磁控濺射靶采（cǎi）用靜止電磁（cí）場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵（miàn）靶和同軸圓柱靶。電子在（zài）電場作用（yòng）下，加速飛向基片的過程中與氬原子發（fā）生碰撞。若（ruò）電子具有足夠的能量（約為30ev）時（shí），則電離出Ar+並產生電子，電（diàn）子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能（néng）量轟擊靶（bǎ）表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾（ěr）夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻（bō）璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜（mó）、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控（kòng）性和重複性好（hǎo）。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜（mó）可以在（zài）較大的表麵上獲得厚度均（jun1）勻的膜層；
2）、薄膜與基（jī）片的（de）附著力強。部分高能量的濺射（shè）原子產生不同程（chéng）度的注入現象，在基（jī）片上形成一層濺射原（yuán）子與基片原子相互溶（róng）合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的（de）薄膜，可以使用不（bú）同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層（céng）純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝（zhuāng）備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能（néng）。