GSF係列高精密電子束(shù)蒸發光學真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24919
GSF係列高精密(mì)電子束蒸發光學真空鍍膜機

工作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作(zuò)原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子(zǐ)束加熱,使膜材(cái)中的原(yuán)子或分子(zǐ)從表麵汽化逸出(chū)後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱(rè)效率高、束流密度大、蒸發速度(dù)快,製成(chéng)的薄膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可(kě)鍍製層數較多的短波通(tōng)、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜(mó)、介質膜、高反膜(mó)、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼(yǎn)鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離子源(yuán)及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧(yǎng)化物、化合物及(jí)其他高熔點膜(mó)材皆可蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采(cǎi)用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程(chéng)的全自動控製,可(kě)以實現無人值守,從而提(tí)高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定(dìng)性(xìng)。
2)、大抽速真空(kōng)係統(tǒng)加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光(guāng)學膜係製備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布(bù)穩定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係(xì),為精密膜係的實現調工了膜料(liào)蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速旋轉的工(gōng)件架轉動係統,使工件架(jià)內外圈產品光(guāng)譜曲線更趨於一致。
5)、適用於(yú)光學(xué)領域行業(yè),大規模工業生(shēng)產高(gāo)端要求的廠商使(shǐ)用。

技術(shù)參數表

GSF高精密電子束蒸發光學(xué)真空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機(jī)組KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組雙KT630擴(kuò)散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴(kuò)散泵(bèng)機組雙KT630擴散泵機組(zǔ)
鍍膜(mó)係統電子槍蒸發源、鍍膜輔助離(lí)子專用電源或霍(huò)爾離子源
充氣係(xì)統壓強控製儀
控製方式半自動(dòng)或全自動
膜厚監控係統(tǒng)石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具(jù)體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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