GSF係列高精密電子束(shù)蒸發光學真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24919
GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機的工作(zuò)原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子(zǐ)束加熱,使膜材(cái)中的原(yuán)子或分子(zǐ)從表麵汽化逸出(chū)後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱(rè)效率高、束流密度大、蒸發速度(dù)快,製成(chéng)的薄膜純度高。
光學鍍膜設備可(kě)鍍製層數較多的短波通(tōng)、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜(mó)、介質膜、高反膜(mó)、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼(yǎn)鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離子源(yuán)及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧(yǎng)化物、化合物及(jí)其他高熔點膜(mó)材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采(cǎi)用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程(chéng)的全自動控製,可(kě)以實現無人值守,從而提(tí)高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定(dìng)性(xìng)。
2)、大抽速真空(kōng)係統(tǒng)加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光(guāng)學膜係製備提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布(bù)穩定、性能可靠的E型電子槍,優化設計的蒸發源與工件架之間的位置關係(xì),為精密膜係的實現調工了膜料(liào)蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速旋轉的工(gōng)件架轉動係統,使工件架(jià)內外圈產品光(guāng)譜曲線更趨於一致。
5)、適用於(yú)光學(xué)領域行業(yè),大規模工業生(shēng)產高(gāo)端要求的廠商使(shǐ)用。
GSF高精密電子束蒸發光學(xué)真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機(jī)組 | KT630擴散泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴(kuò)散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴(kuò)散泵(bèng)機組 | 雙KT630擴散泵機組(zǔ) |
鍍膜(mó)係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離(lí)子專用電源或霍(huò)爾離子源 |
充氣係(xì)統 | 壓強控製儀 |
控製方式 | 半自動(dòng)或全自動 |
膜厚監控係統(tǒng) | 石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考,具(jù)體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |