CJ係（xì）列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用（yòng）荷能粒子（通常用氣體正（zhèng）離子（zǐ））轟擊物體，從而引（yǐn）起物體表麵原子從母體（tǐ）中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用（yòng）靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電（diàn）場則（zé）分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中（zhōng）與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的（de）能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產（chǎn）生電（diàn）子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射（shè）靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發（fā）生濺射。 

廣泛應用於家電（diàn）電器（qì）、鍾表、高爾夫球（qiú）頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以（yǐ）及儀器儀表（biǎo）、塑料、玻璃（lí）、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金（jīn）裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺（jiàn）射鍍（dù）膜可以在較大的表麵上獲得厚（hòu）度均勻的膜（mó）層；
2）、薄膜與基片的附著力（lì）強。部分（fèn）高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片（piàn）上形成一層濺（jiàn）射原（yuán）子與基片原子相互溶合的（de）偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜（mó），可以使用不同的材料（liào）同時濺射製備混合膜、化合膜，還（hái）可濺射（shè）成TiN仿金（jīn）膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會混入坩鍋加熱（rè）器材料的（de）成份。
5 )、裝備低溫離子（zǐ）輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。