如何掌控（kòng）真空鍍膜的均勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為（wéi）掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵（jiàn）怎麽（me）調（diào）試鍍膜機
1、測試設（shè）備的抽真空速度，在（zài）測試過程中檢查漏氣情況與各真空（kōng）泵的性能；
2、測試設備（bèi）的密封性能，就是抽到極（jí）限（xiàn）後保壓（yā）1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試（shì）作（zuò），檢驗其他（tā）的性能，比如傳動、加熱、絕（jué）緣等（děng）等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測（cè）試。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄（lù）人簽字以及有使用部（bù）門或（huò）工程部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍（dù）膜機原理的不同分為很多（duō）種類，僅僅因為都需要高真空（kōng）度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響（xiǎng）均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性這（zhè）個（gè）概（gài）念本身也會隨著鍍膜尺度和薄（báo）膜成分而有著不同的意義（yì），下麵（miàn）分別說一下：

均勻性主要體現在（zài）3方麵：
1、厚度上的均（jun1）勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就（jiù）是1/10波長作為單（dān）位，約為100A），真空鍍（dù）膜的均勻性已經（jīng）相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧（hú）離子鍍膜機（jī）的光（guāng）學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就（jiù）是說要（yào）實現10A甚至（zhì）1A的表麵平（píng）整，是現在真空鍍膜中主要的技（jì）術含量與（yǔ）技術瓶頸所在（zài）。
2、化學（xué）組分上的均勻性：就（jiù）是說在薄膜中，化合物的原子（zǐ）組分（fèn）會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果（guǒ）濺控（kòng）濺射鍍（dù）膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並（bìng）不（bú）是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜（mó）並非是想要的膜的化學（xué）成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在（zài）。
3、晶格（gé）有序度（dù）的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術（shù）中的（de）熱點問題。 

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